ムーアの法則

半導体にはムーアの法則という有名な法則があります。
これは「半導体の集積密度は18～24ヶ月で倍増する」というもので、1965年にIntelのムーア博士が提唱したのでムーアの法則と言われています。

要はICのトランジスタ数が倍になるということで、半導体に詳しくなくてもパソコン好きは誰でも知っているくらい有名な法則です。

しかし最近になって半導体の微細度が向上し、そろそろこの法則が限界に近づいてきたと言われています。
そのため半導体の進化は止まってしまうのではないかと様々なところで危惧されてます。

でもよくよく考えてみると、この法則って半導体の性能じゃなくて半導体の微細度に対してのみ適用される法則なんですよね。
つまりムーアの法則は半導体の性能自体には言及していないということです。

半導体は現在、そのほとんどがシリコンで作られています。
このシリコンの微細度が上がれば上がるほど性能は向上します。
しかしシリコン以外を使うことでも、半導体の性能は向上させることができます。

たとえばGaAs、これはガリウム砒素といって非常に高速な動作が可能になっています。
またグラフェンという炭素素材を利用した半導体の研究なども進んでいます。
こういった技術の革新によって、微細度が限界に達したとしてもまだまだ半導体そのものの性能向上の道はあるものと思われます。

･･･とここまで書いて気づいたのですが、半導体の性能が向上しても、どうしても微細度に依存せざるを得ない部分があります。
それはメモリです。

メモリは記憶素子を大量に配置する必要があるので、微細度が高くなければ単位面積当たりの記憶容量は増大しません。
最近では1つの記憶素子に多値を記憶させるMLCという技術が流行っているようですが、それにしても記憶素子の増大は必須となります。

ということは半導体の性能自体が向上しても、メモリ素子の性能は（記憶容量という面では）向上しないことになります。う～ん･･･。

メモリの容量にに関しても、微細化以外の道で解決する方向になるとは思うんですけど、それでも微細化は必須の技術ですね。
ちなみに最近になって色々と次世代メモリ技術も出てきたので、こちらからの革新があるかもしれません。